เป้าหมายทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูง-

ความหนาแน่นสูงและการสร้างฟิล์มที่สม่ำเสมอเป็นพิเศษรองรับรูปทรงที่กำหนดเองและบริการติดแผ่นหลังที่หลากหลาย

เป้าหมายทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูง-คือเป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะมีค่าที่ประดิษฐ์จากทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูง-สูง- เป็นพิเศษผ่านการหลอมที่แม่นยำ การตีขึ้นรูป การรีด และการประมวลผลทางกล ส่วนใหญ่จะใช้ในกระบวนการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) แมกนีตรอนสปัตเตอร์ เป้าหมายเหล่านี้มีความบริสุทธิ์สูง ความหนาแน่นสูง พื้นผิวเรียบ และความแม่นยำของมิติที่ควบคุมได้ ช่วยให้เกิดการสะสมของฟิล์มทองคำที่สม่ำเสมอ มีข้อบกพร่องต่ำ- และเป็นสื่อกระแสไฟฟ้าสูงสำหรับการใช้งานในเซมิคอนดักเตอร์ ไมโครอิเล็กทรอนิกส์ อุปกรณ์ออพติคอล และเซ็นเซอร์ สามารถใช้งานร่วมกับอุปกรณ์สปัตเตอร์ทั่วไปและกระบวนการเคลือบต่างๆ

ส่งคำถาม

การแนะนำสินค้า

รายละเอียดสินค้า

เป้าหมายทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูง-เหล่านี้ผลิตจากวัสดุทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูง-สูง-เป็นพิเศษ และมีจำหน่ายทั้งแบบวงกลม สี่เหลี่ยม สี่เหลี่ยม และรูปทรงที่กำหนดเอง- พร้อมรองรับบริการการติดแผ่นหลัง (การติดอินเดียม/การติดตัวด้วยยางยืด) ผลิตภัณฑ์เหล่านี้เข้ากันได้กับระบบสปัตเตอร์ของแบรนด์ส่วนใหญ่ โดยให้ความสม่ำเสมอของฟิล์มที่ดีเยี่ยมและอัตราการสปัตเตอร์ที่เสถียร ทำให้เหมาะสำหรับการใช้งานการสะสมฟิล์มบางระดับสูง- เช่น อิเล็กโทรดเซมิคอนดักเตอร์ การเคลือบแสง อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ที่ยืดหยุ่น และไบโอเซนเซอร์

คุณสมบัติ

ความบริสุทธิ์แบ่งออกเป็นเกรดทั่วไปและเกรดที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ-
มีความหนาแน่นสูงและมีโครงสร้างเนื้อเยื่อสม่ำเสมอ
แสดงความเรียบของพื้นผิวสูงและความแม่นยำในการตัดแต่งขึ้นรูปด้วยเครื่องจักรเป็นเลิศ
สำหรับกระบวนการสปัตเตอร์ DC

ฟิล์มสปัตเตอร์มีความหนาสม่ำเสมอพร้อมการยึดเกาะที่ดีเยี่ยม
โดยมีส่วนประกอบแบ็คเพลนที่ถูกผูกไว้เพื่อลดความซับซ้อนใน-การติดตั้งเครื่อง
เข้ากันได้กับอุปกรณ์สปัตเตอร์แมกนีตรอนแบรนด์หลัก

ข้อมูลจำเพาะและรุ่น

หากต้องการปรับแต่งเส้นผ่านศูนย์กลาง ความหนา ความบริสุทธิ์ ประเภทการยึดติด หรือข้อกำหนดทางเทคนิค โปรดติดต่อเรา เราสามารถจัดหาโซลูชันวัสดุที่ปรับแต่งตามรุ่นอุปกรณ์สปัตเตอริง ข้อกำหนดในการเคลือบ และข้อกำหนดด้านมิติของคุณ

มิติการจำแนกประเภท	ประเภทสินค้า	คุณสมบัติหลัก
เกรดความบริสุทธิ์	เป้าหมายทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูง-	การใช้งานทั่วไป-เซมิคอนดักเตอร์และการเคลือบออปติคอล
เกรดความบริสุทธิ์	เป้าหมายทองคำที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ-	เหมาะสำหรับ-อุปกรณ์ระดับไฮเอนด์และงานเคลือบที่มีความแม่นยำสูง-
รูปแบบสินค้า	เป้าหมายทองคำแบบวงกลม	ข้อกำหนดมาตรฐาน เหมาะสำหรับสถานการณ์ทั่วไป
รูปแบบสินค้า	เป้าหมายทองสี่เหลี่ยม/สี่เหลี่ยม	เหมาะสำหรับการเคลือบพื้นที่ขนาดใหญ่-และโพรงพิเศษ